| 1. Identificação | ||||||||||
| Tipo de Referência | Tese ou Dissertação (Thesis) | |||||||||
| Site | mtc-m21c.sid.inpe.br | |||||||||
| Código do Detentor | isadg {BR SPINPE} ibi 8JMKD3MGPCW/3DT298S | |||||||||
| Identificador | 8JMKD3MGP3W34R/3REFRQL | |||||||||
| Repositório | sid.inpe.br/mtc-m21c/2018/07.11.17.45 | |||||||||
| Última Atualização | 2019:02.06.11.41.05 (UTC) simone | |||||||||
| Repositório de Metadados | sid.inpe.br/mtc-m21c/2018/07.11.17.45.53 | |||||||||
| Última Atualização dos Metadados | 2022:03.15.22.18.47 (UTC) administrator | |||||||||
| Chave Secundária | INPE-18109-TDI/2810 | |||||||||
| Chave de Citação | Santos:2018:InSuPr | |||||||||
| Título | Influência da superfície e do processo de semeadura na adesão de filmes de diamante micro/nanocristalino dopados com boro em substrato de titânio e sua aplicação no estudo da degradação eletroquímica do herbicida bentazona  | |||||||||
| Título Alternativo | Influence of the surface and seeding process on the adhesion of boron doped micro / nanocrystalline diamond films on titanium substrate and its application in the study of the electrochemical degradation of the herbicide bentazone. | |||||||||
| Curso | CSE-ETES-SESPG-INPE-MCTIC-GOV-BR | |||||||||
| Ano | 2018 | |||||||||
| Data | 2018-08-17 | |||||||||
| Data de Acesso | 02 maio 2024 | |||||||||
| Tipo da Tese | Tese (Doutorado em Engenharia e Gerenciamento de Sistemas Espaciais) | |||||||||
| Tipo Secundário | TDI | |||||||||
| Número de Páginas | 126 | |||||||||
| Número de Arquivos | 1 | |||||||||
| Tamanho | 11764 KiB | |||||||||
| 2. Contextualização | ||||||||||
| Autor | Santos, Marta dos | |||||||||
| Grupo | CSE-ETES-SESPG-INPE-MCTIC-GOV-BR | |||||||||
| Banca | Ferreira, Neidênei Gomes (presidente) Oishi, Silvia Sizuka (orientadora) Couto, Andrea Baldarini Almeida, Dalva Alves de Lima Kostov, Leide Lili Gonçalves da Silva Azevedo, Adriana Faria | |||||||||
| Endereço de e-Mail | santosmartados@gmail.com | |||||||||
| Universidade | Instituto Nacional de Pesquisas Espaciais (INPE) | |||||||||
| Cidade | São José dos Campos | |||||||||
| Histórico (UTC) | 2018-07-11 17:46:37 :: marta_santos -> pubtc@inpe.br :: 2018-07-24 16:33:20 :: pubtc@inpe.br -> marta_santos :: 2018-07-30 16:11:03 :: marta_santos -> pubtc@inpe.br :: 2018-09-12 16:46:19 :: pubtc@inpe.br -> administrator :: 2018-12-06 11:27:52 :: administrator -> pubtc@inpe.br :: 2018-12-06 11:38:42 :: pubtc@inpe.br -> administrator :: 2019-01-17 14:39:07 :: administrator -> simone :: 2019-01-17 14:42:28 :: simone :: -> 2018 2019-01-17 14:43:33 :: simone -> administrator :: 2018 2019-01-18 07:01:44 :: administrator -> simone :: 2018 2019-02-07 13:13:47 :: simone -> administrator :: 2018 2022-03-15 22:18:47 :: administrator -> :: 2018 | |||||||||
| 3. Conteúdo e estrutura | ||||||||||
| É a matriz ou uma cópia? | é a matriz | |||||||||
| Estágio do Conteúdo | concluido | |||||||||
| Transferível | 1 | |||||||||
| Palavras-Chave | POAE DDB NDDB bentazona degradação POAE DDB NDDB bentazone degradation | |||||||||
| Resumo | A deposição de diamante CVD (Chemical Vapor Deposition) em diferentes materiais requer tratamento de superfície do mesmo como a semeadura do substrato com partículas de diamante dispersas em um solvente apropriado usando agitação ultrassônica. Por outro lado, a semeadura por atração eletrostática de partícula de nanodiamante tem mostrado filmes com maior densidade de nucleação em comparação com aqueles obtidos a partir do tratamento ultrassônico. Além disso, a nucleação e o crescimento de filmes de diamante dopados com boro micro/nanocristalinos (DDB/NDDB) em substratos de titânio (Ti) representam um processo complexo, principalmente, pela à fraca adesão do filme devido à diferença dos coeficientes de expansão térmica entre o filme e o substrato. Assim, a morfologia do substrato associada ao processo de semeadura pode ser determinante para esta adesão. Neste contexto, a adesão de filmes de DDB e NDDB no substrato de Ti foi estudada, sistematicamente, considerado-se cinco diferentes rugosidades de superfície de Ti, para dois diferentes processos de semeadura: agitação ultrassônica com partícula de diamante 0,25 μm e semeadura por atração eletrostática com partícula de diamante 4nm em solução de cloreto de potássio. Vinte diferentes tipos de amostras foram crescidos pela técnica de deposição química na fase vapor por 20h, considerando a combinação de nucleação e crescimento de DDB e NDDB, rugosidade do Ti e metodologias de semeadura. As amostras foram caracterizadas por microscopia eletrônica de varredura, espectroscopia de espalhamento Raman e espectroscopia de raios X (DRX). Os testes de aderência foram realizados pelo teste de dureza Rockwell, de acordo com a norma VDI 3198. Os resultados mostraram que os filmes DDB crescidos com semeadura por abrasão mecânica apresentaram a melhor adesão enquanto para os filmes NDDB o melhor resultado foi obtido por semeadura por atração eletrostática, indicando que o processo de semeadura tem papel importante na melhoria das propriedades mecânicas dos filmes de diamante para as duas morfologias estudadas. A partir desses resultados, eletrodos DDB e NDDB foram crescidos nos mesmos parâmetros otimizados com maior área superficial, caracterizados morfologicamente, estruturalmente e eletroquimicamente. Esses eletrodos DDB e NDDB foram utilizados no estudo da degradação eletroquímica do composto bentazona. Os resultados obtidos indicaram que durante a degradação vários intermediários são formados e ocorre a formação de pontos isosbésticos, indicando que durante a degradação existe a formação de equilíbrio acido-base e/ou tautomérico entre os intermediários formados. O eletrodo de NDDB foi mais eficaz no processo de eletrólise do composto bentazona, apresentando o menor consumo energético associado à maior redução de carbono orgânico total. ABSTRACT: CVD (Chemical Vapor Deposition) diamond deposition on different materials requires surface treatment such as diamond particles seeding on the substrate dispersed in an appropriate solvent by using ultrasonic agitation. On the other hand, seeding process by electrostatic attraction of nanodiamond particle have produced films with higher nucleation density compared to that obtained from ultrasonic treatment. In addition, nucleation and growth of micro/nanocrystalline boron doped diamond films (BDD/BDND) on titanium (Ti) substrates represent a complex process, mainly due to the poor film adhesion related to the difference in the thermal expansion coefficients between the film and the substrate. Thus, the morphology of the substrate associated to the seeding process can be determinant for this adhesion. In this context, the adhesion of BDD and BDND films on Ti substrate was systematically considered in five different Ti surface roughnesses for two different seeding processes: ultrasonic agitation with 0.25 μm diamond particle and electrostatic seeding with 4nm diamond particle in potassium chloride. Twenty different diamond film samples were grown by CVD technique for 20h, considering the combination of nucleation and growth of BDD and BDND, Ti roughness, and seeding methodologies. The samples were characterized by scanning electron microscopy, Raman scattering spectroscopy and X-ray diffraction spectroscopy (XRD). The adhesion tests were performed by the Rockwell C hardness test according to VDI 3198. The results showed that the BDD films grown with mechanical abrasion presented the best adhesion while for the BDND films the best result was obtained using electrostatic attraction, indicating that the seeding process has an important role in improving the mechanical properties of the diamond films for the two studied morphologies. From these results, BDD and BDND electrodes were grown in the same optimized parameters with greater surface area, characterized morphologically, structurally and electrochemically. These BDD and BDND electrodes were used in the bentazone electrochemical degradation. The results indicated that during the degradation several intermediates are formed and the formation of isosbestics points occurred, indicating that during the degradation there is formation of acid-base and/or tautomeric balance among the formed intermediates. BDND electrode was more effective in this electrolysis process of bentazone compound, presenting the lowest energy consumption as well as the greatest reduction of total organic carbon. | |||||||||
| Área | ETES | |||||||||
| Arranjo | urlib.net > BDMCI > Fonds > Produção pgr ATUAIS > CSE > Influência da superfície... | |||||||||
| Conteúdo da Pasta doc | acessar | |||||||||
| Conteúdo da Pasta source |
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| Conteúdo da Pasta agreement |
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| 4. Condições de acesso e uso | ||||||||||
| URL dos dados | http://urlib.net/ibi/8JMKD3MGP3W34R/3REFRQL | |||||||||
| URL dos dados zipados | http://urlib.net/zip/8JMKD3MGP3W34R/3REFRQL | |||||||||
| Idioma | pt | |||||||||
| Arquivo Alvo | publicacao 06_02.pdf | |||||||||
| Grupo de Usuários | gabinete@inpe.br marta_santos pubtc@inpe.br | |||||||||
| Visibilidade | shown | |||||||||
| Licença de Direitos Autorais | urlib.net/www/2012/11.12.15.10 | |||||||||
| Permissão de Leitura | allow from all | |||||||||
| Permissão de Atualização | não transferida | |||||||||
| 5. Fontes relacionadas | ||||||||||
| Repositório Espelho | urlib.net/www/2017/11.22.19.04.03 | |||||||||
| Unidades Imediatamente Superiores | 8JMKD3MGPCW/3F35BSP | |||||||||
| Lista de Itens Citando | sid.inpe.br/bibdigital/2013/10.14.22.20 4 | |||||||||
| Divulgação | BNDEPOSITOLEGAL | |||||||||
| Acervo Hospedeiro | urlib.net/www/2017/11.22.19.04 | |||||||||
| 6. Notas | ||||||||||
| Campos Vazios | academicdepartment affiliation archivingpolicy archivist callnumber contenttype copyholder creatorhistory descriptionlevel doi electronicmailaddress format isbn issn label lineage mark nextedition notes number orcid parameterlist parentrepositories previousedition previouslowerunit progress readergroup resumeid rightsholder schedulinginformation secondarydate secondarymark session shorttitle sponsor subject tertiarymark tertiarytype url versiontype | |||||||||